Festival Mesh in Münchenstein verknüpft Kunst und Technologie
Das neue Festival Mesh auf dem Freilager-Campus im basellandschaftlichen Münchenstein bringt elektronische Kunst und Performances mit wissenschaftlicher Forschung und industriellen Technologien zusammen. Die erste Ausgabe trägt den Titel «Tooling the Future».
Kunst und Technologie liegen oft nicht weit auseinander. Das zeigte der Rundgang durch das ausgedehnte Festivalgelände rund um die Hochschule für Gestaltung und Kunst (HGK) der Fachhochschule Nordwestschweiz (FHNW) und dem Haus für elektronische Künste (HEK) vom Mittwoch. Viele der künstlerischen Arbeiten kommen daher wie nur leicht verfremdete wissenschaftliche Forschungsprojekte. Die Arbeiten wirken zum Teil recht kopflastig, aber auch lehrreich.
Das gilt zum Beispiel für das interaktive Werk «The Sentinel Self» der dänischen Künstlerin Sissel Marie Tonn. Über ein Herzfrequenzmessgerät kann man in ein Unterwasser-Ökosystem eintauchen und sich virtuell den auf den Menschen übertragenen Folgen der Wasserverschmutzung durch Mikroplastik aussetzen.
Mit subversiv-hintersinnigem Humor geht die bekannte Berliner Mediengruppe Bitnik ans Werk. An verschiedenen Stationen, vom Massagesessel bis zur Yogamatte, können sich die Besucherinnen und Besucher den geografischen und touristischen Bewertungssystemen von Social Media-Plattformen aussetzen. So wird man zum Beispiel auf eine Tour zu miserabel bewerteten Basler Standorten und Institutionen geführt, die eigentlich zu den Highlights gehören.
Werkzeuge der Zukunft
Das Festival Mesh wird getragen von der HGK, dem HEK und dem Basler Studio für mediale Architektur iart. Neben den verschiedenen Ausstellungen sollen die Schnittpunkte und Überlappungen von Kunst und Technologie ausgeleuchtet werden, unter anderem über Podiumsveranstaltungen, Vorträge und Workshops, aber auch über Kunst-Performances, Konzerte oder Club Nights.
Die erste Ausgabe des biennal angelegten Festivals trägt den Titel «Tooling the Future» («Werkzeuge für die Zukunft») und dauert bis Samstag.